[イーデイリーSOYEON KIM チェ・オヒョン記者] 「4Fスクエア」（4F²）は、従来の6Fスクエアよりも集積度を高める次世代DRAM技術です。ただし、原価構造が異なるため、適用時期の戦略も変わる可能性があります。工程の革新を通じて、現在の6Fスクエアをさらに拡張できる技術を確保しています。 6Fスクエア製品の競争力を最大限に確保することが、最も効率的な戦略であると考えています。新しいセル構造を製品に適用するには、原価競争力、歩留まり、信頼性、製品設計まで考慮しなければなりません。技術開発と商用化の時期は区別して見る必要があります。当社は段階別の技術ロードマップを準備中であり、次世代DRAMにおいても性能、原価、量産性のすべてを兼ね備えた技術競争力を確保していきます。」
…SKハイニックス 2026年第3四半期 カンファレンスコール