[水原＝イーデイリーHwang Young-min 記者] チュ・ミエ京畿道知事が、サムスン電子とSKハイニックスに対し、半導体工場の排水の水質管理に関する行政指導を行いました。これは、去る7月の半導体プロセス水の再利用率引き上げ、8月の排水量の削減に続く、3度目の行政指導となります。

28日、京畿道は、SamsungElectronics(005930)およびSK hynix(000660)に対し、半導体工場の放流水に含まれる塩化物イオンと硫酸イオン濃度を低減するための独自の管理基準と削減対策を策定するよう行政指導を行ったと明らかにしました。

これに先立ち、京畿道保健環境研究院がチュ知事の指示により、SKハイニックス工場の排水が流入する利川（イチョン）の竹堂川（チュクダンチョン）一帯の水質を3回にわたり調査した結果、排水口下流0.4km地点の塩化物イオンの平均濃度は731mg/L、硫酸イオンは1,561mg/Lであり、国連食糧農業機関（FAO）が提示した農業用水に関する推奨水準を上回っていました。 塩化物イオンと硫酸イオンは、濃度が高くなると作物の生育などに影響を及ぼす可能性があります。現在、韓国国内には塩化物イオンと硫酸イオンに関する個別の河川水質基準がありません。

今回の行政指導は、SKハイニックスの龍仁（ヨンイン）半導体クラスター一般産業団地の生産施設（Fab）の稼働が本格化した後、安城（アンソン）のコサム貯水池に放流水が流入する場合に備えた措置です。 コサム貯水池は農業用として使用されているためです。京畿道は、気候エネルギー環境部に対し、龍仁のSKハイニックス事業場における塩素化合物および硫黄およびその化合物に関する許可排出基準を早急に策定するよう、去る8月に要望しました。

道は両社に送付した行政指導の公文書を通じて、政府の許可排出基準が策定されるまで、塩素化合物（塩素イオンを含む）および硫黄およびその化合物（硫酸イオンを含む）に対する独自の管理基準を設定し、濃度を低減するための方策を講じるよう勧告しました。
チュ知事は前日の27日、龍仁（ヨンイン）半導体クラスターなど、半導体産業関連の懸案事項に関する会議を開き、半導体事業所で発生する放流水が周辺の河川や農業用水に及ぼす影響を最小限に抑えるための先制的な水質管理を指示しました。

京畿道の関係者は、「今後、半導体生産施設の拡大に伴い、用水使用量と廃水放流量が増加すると予想されるため、政府による許可排出基準の策定状況を確認するとともに、周辺の河川やコサム貯水池の水質についても継続的に調査する計画です」と説明しました。